稳顶聚芯自研光刻机补功率芯片缺口，寻求融资
在EUV之外，一条更贴近产线的光刻机赛道正在升温。深圳稳顶聚芯技术有限公司（品牌WONDER SIGHT）成立于2023年5月，主攻前道步进投影式光刻机（Stepper）整机与配套量测装备，目标客户并非先进逻辑芯片产线，而是碳化硅、氮化镓功率器件、Mini/Micro LED、光芯片以及2.5D、3D先进封装前道工艺等特色工艺产线。2025年9月，公司首台WS180i系列高精度步进式光刻机完成组装调试并出厂交付。围绕产能扩建与中远期机型研发，稳顶聚芯正在启动融资。
成熟制程扩产提速，i-line步进机的交期与适配成了新问题
光刻机常被简化为EUV的代名词，但在实际产线中用量最大的，仍是采用365纳米汞灯i-line光源与248纳米KrF光源的成熟制程机型。功率器件、化合物半导体、光电器件的关键层线宽多落在亚微米到数微米区间，对分辨率的要求远低于先进逻辑芯片，却对衬底兼容性、产率与长期稳定性提出了另一套要求。据稳顶聚芯引用ASML、尼康、佳能历年年报数据测算，2024年全球KrF光刻机出货约206台、i-line光刻机约265台，两类机型仍是出货主力；中国i-line与KrF领域2024年的市场需求约150亿元，而2020年这一数字仅30多亿元。
问题出在供给端的响应速度。佳能在i-line细分市场长期占据较高份额，尼康则在2024年推出时隔25年的i-line新品NSR-2205iL1，分辨率为350纳米、数值孔径0.45、最大曝光场22毫米见方，明确指向碳化硅、氮化镓加工场景。对国内快速扩产的功率器件与化合物半导体产线而言，进口新机通常面临两年左右的交付周期与较长的售后服务响应周期，存量二手设备则面临精度衰减与维护难题。更麻烦的是适配问题：为硅基产线优化的机台，在面对碳化硅衬底的大翘曲、透明或半透明基片、大台阶结构时，调焦调平与套刻精度往往无法直接复用，而这类工艺痛点恰恰集中在国内增长最快的新能源与工业控制芯片链条上。
从0.35微米切入，把长期稳定做成硬指标
稳顶聚芯的解法是从化合物半导体产线的真实需求倒推机型定义。WS180i与WS235i两个系列均采用i-line步进投影方案，覆盖2英寸至8英寸晶圆，分辨率区间为1.5微��至0.35微米，兼容硅、碳化硅、氮化镓、砷化镓、磷化铟、蓝宝石等多种衬底，并支持大翘曲片与不同胶厚的光刻工艺。据公司介绍，其整机稳定套刻精度可达90纳米左右，关键尺寸均匀性控制在正负8纳米以内。
在亚微米分辨率下，真正决定良率的往往不是单点极限指标，而是长时间运行中的稳定性。稳顶聚芯把技术重心放在三条线上。其一是高精度在线测量与自动补偿，通过对投影物镜倍率、关键元件位移的实时监测，对环境温度变化引起的成像漂移实施补偿；其二是实时检焦调平，用自研算法抑制晶圆翘曲带来的视场边缘离焦，兼顾测量速度与产率；其三是整机动态稳定性，由主动减振系统、亚微米级像差传感器与微秒级压电反馈镜组构成多参量实时闭环，通过频域滤波算法分离温度与振动扰动，公司称曝光能量波动可控制在1.8%以内，同等热扰动条件下的稳定性提升至原有水平的2至3倍。此外，公司构建了覆盖光、热、材料的数字孪生模型，用自适应算法降低第三代半导体的工艺预测偏差，模型更新周期不超过24小时。
除主机外，稳顶聚芯同步开发了套刻及关键尺寸光学量测设备（量测精度10纳米）、超精密光学成像质量评价系统、薄膜测量系统与高性能主动减振平台。对一条新建的化合物半导体产线而言，这种主机加量测、再加环境控制的成套交付能力，往往比单一机台的参数更能影响导入决策。
这条赛道并非只有一家玩家。上海微电子的90纳米ArF光刻机已实现量产，28纳米浸没式机型处于验证阶段；上海芯上微装于2025年11月发运首台350纳米步进机AST6200，正面套刻精度80纳米。稳顶聚芯的差异化更多体现在交付与服务侧：公司称整机价格区间在1200万元至5000万元，交付周期约8个月，售后24小时响应，并将目标客户明确锁定在中国大陆的非IC芯片产线，以避开与头部厂商在先进制程上的正面竞争。
先吃非IC产线，滚动推进到KrF与先进封装
商业路径上，稳顶聚芯采取滚动式发展：近期聚焦0.8微米与0.35微米的i-line机型，中期向0.13微米KrF与28纳米ArFi浸没式DUV延伸，工艺制程覆盖0.8微米至28纳米的成熟区间，业务优先服务汽车与新能源芯片制造相关的功率半导体，以及2.5D、3D先进封装的前道工艺。收入以整机销售为主，配套量测设备、关键零部件与技术服务构成第二增长曲线。高校与科研院所是另一块需求明确的市场，在设备更新政策推动下，这部分采购基本指向国产设备。
团队构成是该项目最被看重的部分。创始人祁博士为华中科技大学光学工程专业博士，曾任职中国科学院光电研究院、深圳大学与南方科技大学，是国家「02」专项核心成员、科技部专家库专家，在国内外权威期刊发表论文16篇，授权或公开的中国、美国、欧洲专利近350件；其此前曾主导193纳米ArF光刻用准分子激光光源、高性价比Mask Aligner光刻机与308纳米准分子激光光源的开发。公司核心团队中另有五位博士，分别负责总体设计、仿真、光学设计、量测设计与光学系统；高管团队则覆盖光刻机操作系统与软件集成、半导体器件工艺优化、高端生产制造以及整机振动控制与结构设计。
进展方面，公司已申请专利及软件著作权32项，其中发明专利28项、软件著作权4项；现有2000余平方米研发场地，规划扩建千百级洁净制造车间，配置30个VC-E级防振的光刻机集成平台，规划最大年产80台整机的产能，现阶段具备年产约20台的能力。按公司规划，交付量将从2025年的2台逐步提升至2029年的50台，2026年有望实现盈利，2028年前后进入稳定运营，累计研发与生产投入约2.98亿元。2026年1月，稳顶聚芯与深圳信息职业技术大学签署校企合作协议并揭牌产教融合实训基地，为后续工艺验证与人才培养铺路。
对投资方而言，真正的变量在于：在佳能、尼康持续加码成熟制程机型、国内厂商同步推进的背景下，一家成立不到三年的公司能否把首台交付所积累的调试经验，稳定复制到数十台规模的量产交付中。